大型冷水機組在真空鍍膜工藝中有什么作用？

真空鍍膜工作原理是膜體在高溫下蒸發(fā)落在工件表面結(jié)晶。由于空氣對蒸發(fā)的膜體分子會產(chǎn)生阻力造成碰撞使結(jié)晶體變得粗糙無光，所以必須在高真空下才能使結(jié)晶體細密光亮，果如真空度不高結(jié)晶體就會失去光澤結(jié)合力也很差。早期真空鍍膜是依靠蒸發(fā)體自然散射，結(jié)合差工效低光澤差。現(xiàn)在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發(fā)分子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜，解決了過去自然蒸發(fā)無法加工的膜體品種，如鍍鈦鍍鋯等等。

中頻設(shè)備必須加冷卻水，原因是它的頻率高電流大。電流在導(dǎo)體流動時有一個集膚效應(yīng)，電荷會聚集在電導(dǎo)有表面積，這樣使電導(dǎo)發(fā)熱所以采用中孔管做導(dǎo)體中間加水冷卻。 控濺射靶在發(fā)射時會產(chǎn)生高溫會使射槍變形，所以它有一個水套來冷卻射槍。同時還有一個重要原因磁控濺射可以被認為是鍍膜技術(shù)中最突出的成就之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜 - 基結(jié)合力好。